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SU9000II场发射扫描电子显微镜运用了新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能
0.4nm/30KV（SE）
1.0nm/1KV(SE)
0.34nm/30KV(STEM）
用改良的高真空性能和优异的电子束稳定性来实现高分辨率截面观察
采用全新设计的Super ExB能量过滤技术，高效，灵活地收集SE/BSE/STEM信号
具有电子光学系统自动调整功能
